Силицијум оксидна плочица високих{0}}перформанси за интегрисана кола

Силицијум-оксидна плочица високих{0}}прилика за интегрисана кола је пажљиво пројектована за најзахтевније примене у производњи полупроводника. Направљена од ултра-чистог силицијум диоксида (СиО₂), ова плочица је идеална за употребу у производњи напредних интегрисаних кола (ИЦ), микроелектромеханичких система (МЕМС), сензора и друге високотехнолошке микроелектронике. Позната по својим врхунским диелектричним својствима, беспрекорној завршној обради и високој термичкој стабилности, ова плочица обезбеђује висок-квалитет и поуздане перформансе у производњи електронике следеће-генерације. Дизајнирана да испуни ригорозне захтеве како истраживања тако и велике-производње, нуди одличну електричну изолацију и оптимизована је за прецизне процесе итд. Без обзира да ли се користи за израду ИЦ прототипа или-производњу великих размера, ова плочица од силицијум оксида даје доследне, изузетне резултате.