Подлога за силицијумске плочице

Подлога за силицијумске плочице

Наша врхунска подлога од силиконске плочице је пројектована да обезбеди робусну и ултра{0}}равну основу за израду врхунских- уређаја. Посебно оптимизовано за200 мм (8 инча) и 300 мм (12 инча)полупроводничке производне линије, овај супстрат обезбеђује изузетно униформно понашање материјала и конзистентност на атомском{0}}нивоу током целог производног циклуса.

Главне карактеристике и техничке предности:

Термичка стабилност:Подлога одржава врхунски структурални интегритет и минимално топлотно ширење чак и под процесима високе{0}}температуре као што су жарење и дифузија.

Прецизна контрола површине:Дизајниран за високо{0}}прецизну литографију и таложење, нудећи{1}}водећи ТТВ у индустрији (Варијација укупне дебљине) за максимизирање приноса чипова.

механичка чврстоћа:Дизајниран да издржи ригорозно индустријско руковање и напредне технике обраде материјала без угрожавања поузданости.

Чисти полупроводнички фокус:Развијено искључиво за{0}}апликације високе чистоће, укључујућиУређаји за напајање (ИГБТ/МОСФЕТ), интегрисана кола (ИЦ) и МЕМС.

Ова подлога је идеалан избор за ливнице и ИДМ-ове који траже поуздану плочу -класе полупроводника која испуњава строге захтеве модерне микроелектронике.

Popularne oznake: Подлога за силицијумске плочице, произвођачи, добављачи, фабрика у Кини