Површина силиконске плочице

Површина силиконске плочице

Наша површина полупроводничке{0}}силицијумске плочице је пажљиво пројектована за оптималне перформансе у-интеграцији високе густине. Свака подлога пролази кроз више-коракаХемијско механичко полирање (ЦМП)процес за постизањеАнгстром{0}}ниво храпавости површине (Ра)и супериорна глобална равност. Ово осигурава да је плочица спремна за најзахтевнију суб-микронску литографију и узорковање високе{2}}резолуције.

Техничке предности:

Бескомпромисни интегритет површине:Високо{0}}полирана површина је без микро-огреботина и удубљења, пружајући нетакнуту основу која минимизира густину дефеката током таложења танког-филма (ЦВД/ПВД).

Електрична униформност:Гарантујемо доследне електричне карактеристике-укључујући прецизну контролу отпорности и мобилност носача-по целој површини плочице, од старих величина од 2 инча до напредних подлога од 12 инча.

Напредна компатибилност процеса:Дизајниране да подрже најсавременију{0}}производњу полупроводника, наше површине нуде одличну адхезију за фотоотпор и високу стабилност током сложеног епитаксијалног раста.

Индустријска поузданост:Направљен за{0}}апликације високих перформанси уУређаји за напајање (ИГБТ/МОСФЕТ), РФ микроелектроника и МЕМС, наше 2-12" плочице обезбеђују стабилне производне резултате и висок принос за светске фабрике.

Popularne oznake: Површина силицијумске плочице, Кина произвођачи, добављачи, фабрика површине силицијумске плочице