Силицијум Вафер Медиум

Силицијум Вафер Медиум

Овај силицијумски медијум високе{0}}чистоће је дизајниран да функционише као поуздана база за обраду најнапреднијих микроелектронских архитектура. Оптимизовано у потпуности2 инча (50 мм) до 12 инча (300 мм)спектра пречника, ове подлоге обезбеђују неопходну термомеханичку стабилност потребну за сложену, вишестепену интеграцију уређаја у високо контролисаним производним окружењима.

Основне техничке предности:

Уравнотежена кинетичка својства:Медијум има пажљиво избалансирану структуру материјала која побољшава термичку и електричну стабилност. Одржавајући строгу контролу надрадијална концентрација кисеоника и савршенство решетке, обезбеђује доследно понашање током високо{0}}имплантације јона и променљивих циклуса термалне дифузије.

Фазна стабилност у свим серијама:Дизајниран за{0}}производњу великог обима, овај медиј ради са изузетном доследношћу у свакој производној серији. Ова-стабилност међу серијама минимизира померање процеса и омогућава строжу контролу наднапон прага (Втх) и покретљивост носиоцау Повер ИЦ и РФ апликацијама.

Прецизно{0}}оријентисан геометријски интегритет:Дизајниран за најзахтевније прецизне апликације, медиј подржава екстремну равност (ТТВ) и ниско искривљење. Овај геометријски интегритет олакшава фотолитографско поравнање високе-резолуције, директно у корелацији са издизањем униво приноса{0}}вафера и поузданост уређаја.

Popularne oznake: силицијум вафер медиј, Кина силицијум вафер медијум произвођачи, добављачи, фабрика